But
Dépôt de couches fines d’oxydes métalliques (épaisseur < 200 nm), de haute conformité sur la pièce 3D
Exemples d’application
- Protection contre la corrosion
- Couches décoratives interférentielles
Possibilités et restrictions
- Matériaux de couches : Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, ZnO:Al, Ta2O5
- Dépôt tridimentionel sur tout type de substrat
- Température de dépôt: 50-300°C
Equipements
Réacteur ALD Picosun R-.
